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| LEADER |
03723nmm a2200349 u 4500 |
| 001 |
EB000678465 |
| 003 |
EBX01000000000000000531547 |
| 005 |
00000000000000.0 |
| 007 |
cr||||||||||||||||||||| |
| 008 |
140122 ||| ger |
| 020 |
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|a 9783642876790
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| 100 |
1 |
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|a Haefer, Rene A.
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| 245 |
0 |
0 |
|a Oberflächen- und Dünnschicht-Technologie
|h Elektronische Ressource
|b Teil II: Oberflächenmodifikation durch Teilchen und Quanten
|c von Rene A. Haefer
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| 250 |
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|a 1st ed. 1991
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| 260 |
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|a Berlin, Heidelberg
|b Springer Berlin Heidelberg
|c 1991, 1991
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| 300 |
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|a XV, 286 S. 58 Abb
|b online resource
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| 505 |
0 |
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|a 7 Mikrotechnologien als Anwendung von Methoden der Oberflächen- und Dünnschicht-Technologie -- 7.1 Einleitung -- 7.2 Herstellung von Siliciumscheiben -- 7.3 Dotierung von Halbleitern -- 7.4 Schichttechnik -- 7.5 Lithographie -- 7.6 Ätztechnik -- 7.7 Anwendungen in der MOS-Technologie -- 7.8 Weitere Mikrotechnologien -- 8 Anhang: Die konventionellen Verfahren des Randschichthärtens von Metallen -- 8.1 Mechanische Verfahren -- 8.2 Thermische Verfahren zum Randschichthärten -- 8.3 Thermochemische Diffusionsverfahren -- Literatur
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| 505 |
0 |
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|a 3.5 Ionenimplantation in Isolatoren und Polymere -- 4 Modifizierung von Oberflächen durch Elektronenstrahl-Verfahren -- 4.1 Einleitung -- 4.2 Wirkungen des Elektronenstrahls auf die Materie -- 4.3 Vergleich der Wechselwirkung von Elektronen- und Laserstrahlen mit einem Target -- 4.4 Thermische Elektronenstrahlverfahren -- 4.5 Nichtthermische Elektronenstrahlverfahren -- 4.6 Anwendungen von strahlenchemischen Wirkungen der Elektronenstrahlen -- 5 Modifizierung von Oberflächen durch Plasma-Verfahren -- 5.1 Einleitung -- 5.2 Erzeugung von Mikrowellen-Plasmen -- 5.3 ECR-Mikrowellen-Ionenquellen -- 5.4 Anwendungen der Plasmatechnik -- 6 Diamantschichten-Herstellung als Anwendung der Plasma- und der Ionenstrahltechnik -- 6.1 Zur Entwicklung des Arbeitsgebietes -- 6.2 Wachstum der Diamantschichten -- 6.4 Über die Rolle des Wasserstoffes beider CVD-Diamant-Abscheidung -- 6.4 Diamant-Abscheidung durch Ionenstrahl-Technik -- 6.5 Eigenschaften und Anwendungen von Diamantschichten --
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| 505 |
0 |
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|a 1 Oberflächenmodifikation — ein Überblick -- 1.1 Einleitung -- 1.2 Laserstrahl-Verfahren -- 1.3 Ionenstrahl-Verfahren -- 1.4 Elektronenstrahl-Verfahren -- 1.5 Plasma-Verfahren -- 1.6 Diamantschichten-Herstellung als Anwendung der Plasma- und der Ionenstrahltechnik -- 1.7 Mikrotechnologien als Anwendung von Methoden der Oberflächenund Dünnschicht-Technologie -- 1.8 Konventionelle Verfahren der Oberflächenmodifikation -- 2 Modifizierung von Oberflächen durch Laserstrahl-Verfahren -- 2.1 Überblick -- 2.2 Laser für die Materialbearbeitung -- 2.3 Wechselwirkung zwischen Strahlung und Werkstoff -- 2.4 Laserinduzierte chemische Reaktionen an Oberflächen -- 2.5 Anwendungen in der Materialbearbeitung -- 2.6 Anwendungen in der Elektronik- und Dünnschicht-Technologie -- 3 Modifizierung von Oberflächen durch Ionenstrahl-Verfahren -- 3.1 Einleitung -- 3.2 Grundlagen der Ionenimplantation -- 3.3 Implantation von Ionen in Halbleiter -- 3.4 Implantation von Ionen in Metalle --
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|a Thin films
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|a Machines, Tools, Processes
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|a Manufactures
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|a Surfaces, Interfaces and Thin Film
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|a Materials / Analysis
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|a Surfaces (Technology)
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| 653 |
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|a Characterization and Analytical Technique
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| 041 |
0 |
7 |
|a ger
|2 ISO 639-2
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| 989 |
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|b SBA
|a Springer Book Archives -2004
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| 490 |
0 |
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|a WFT Werkstoff-Forschung und -Technik
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| 028 |
5 |
0 |
|a 10.1007/978-3-642-87679-0
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| 856 |
4 |
0 |
|u https://doi.org/10.1007/978-3-642-87679-0?nosfx=y
|x Verlag
|3 Volltext
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| 082 |
0 |
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|a 620.112
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