Vakuumbeschichtung Verfahren und Anlagen
| Other Authors: | , |
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| Format: | eBook |
| Language: | German |
| Published: |
Berlin, Heidelberg
Springer Berlin Heidelberg
1995, 1995
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| Edition: | 1st ed. 1995 |
| Series: | VDI-Buch
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| Subjects: | |
| Online Access: | |
| Collection: | Springer Book Archives -2004 - Collection details see MPG.ReNa |
Table of Contents:
- 1 Vakuumbeschichtungsverfahren — Übersicht
- 2 Bedeutung der Vakuumtechnik für die Beschichtungstechnik
- 2.1 Vorbemerkungen
- 2.2 Einfluß der Restgase auf die Schichtreinheit
- 2.3 Vakuumerzeugung
- 2.4 Vakuummessung
- 3 Aufdampfen im Hochvakuum
- 3.1 Vorbemerkungen
- 3.2 Physikalische Grundlagen
- 3.3 Anlagentechnik
- 4 Ionenplattieren
- 4.1 Einleitung
- 4.2 Ionenplattierungsprozeß
- 4.3 Anlagentechnik
- 4.4 Entwicklungsstand und Ausblick
- 5 Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering)
- 5.1 Einführung
- 5.2 Beschreibung des Zerstäubungsprozesses
- 5.3 Plasmagestützte Zerstäubungsverfahren
- 5.4 Anlagentechnik
- 6 Teilchenstrahlgestützte Verfahren
- 6.1 Einleitung
- 6.2 Teilchenstrahlquellen
- 6.3 Anwendung niederenergetischer Ionen- und Plasmastrahlen
- 6.4 Teilchenstrahlunterstützte Beschichtung (IBAD)
- 6.5 Ionenstrahlimplantation
- 6.6 Ionenstrahlmischen
- 7 Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberflächen und dünnen Schichten
- 7.1 Plasmamethoden
- 7.2 Teilchenstrahlmethoden in ihrer Anwendung in der Lithographie
- 8 Plasmabehandlungsmethoden
- 8.1 Plasmadiffusionsverfahren
- 8.2 Pulsimplantation
- 9 Plasmaspritzen
- 9.1 Vorbemerkungen
- 9.2 Funktionsprinzip des Plasmaspritzens
- 9.3 Verfahrensvarianten
- 9.4 Anlagentechnik
- 10 Abscheidung aus der Gasphase
- 10.1 Physikalisch-chemische Grundlagen
- 10.2 Produktionssysteme für CVD-Prozesse
- 10.3 Modifizierung des Beschichtungsprozesses durch ein Plasma
- 10.4 Modifizierung der Gasphase durch Photo-CVD
- 10.5 Plasmapolymerisation
- Literatur
- Sachwortverzeichnis
- Autorenverzeichnis