Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahren
| Main Author: | |
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| Format: | eBook |
| Language: | German |
| Published: |
Berlin, Heidelberg
Springer Berlin Heidelberg
1994, 1994
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| Edition: | 1st ed. 1994 |
| Series: | IPA-IAO - Forschung und Praxis, Berichte aus dem Fraunhofer-Inst. für Produktionstechnik und Automatisierung (IPA) Stuttgart, Fraunhofer-Inst. für Arbeitswirtschaft und Organisation (IAO) Stuttgart, Inst. für Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb der Universität Stuttgart
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| Subjects: | |
| Online Access: | |
| Collection: | Springer Book Archives -2004 - Collection details see MPG.ReNa |
Table of Contents:
- 1 Einleitung
- 2 Entwicklungsbedarf in der PVD-Technologie
- 3 Aufgabenstellung
- 4 PVD-Verfahrenstechnologie
- 4.1 Grundlagen
- 4.2 Beschichtungstechnologien
- 4.3 Konventionelle Methoden des ionenunterstützten Abscheidens
- 4.4 Meßverfahren
- 5 Die überlagert gepulste Biasspannung
- 5.1 Aufbau
- 5.2 Grundlegende Betrachtungen zur überlagert gepulsten Biasspannung
- 6 Wirkungen der überlagert gepulsten Biasspannung auf die Prozeßbedingungen
- 6.1 Beschichtungstemperatur
- 6.2 Ionenstromdichte
- 6.3 Ionenenergie
- 7 Ergebnisse der Beschichtungsversuche
- 7.1 Abscheiderate
- 7.2 Bevorzugte Kristallorientierung
- 7.3 Mikrostruktur
- 7.4 Schichtcigenspannungen
- 7.5 Verbundfestigkeit, Haftfestigkeit
- 7.6 Mikrohärte
- 7.7 Rauheit
- 7.8 Korrosionsbeständigkeit
- 8 Anwendungsbeispiele
- 9 Bewertung der Ergebnisse
- 10 Zusammenfassung
- 11 Ausblick
- 12 Literaturverzeichnis