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| LEADER |
03797nmm a2200385 u 4500 |
| 001 |
EB000675504 |
| 003 |
EBX01000000000000000528586 |
| 005 |
00000000000000.0 |
| 007 |
cr||||||||||||||||||||| |
| 008 |
140122 ||| ger |
| 020 |
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|a 9783642811128
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| 100 |
1 |
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|a Reimer, L.
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| 245 |
0 |
0 |
|a Raster-Elektronenmikroskopie
|h Elektronische Ressource
|c von L. Reimer, G. Pfefferkorn
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| 250 |
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|a 2nd ed. 1977
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| 260 |
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|a Berlin, Heidelberg
|b Springer Berlin Heidelberg
|c 1977, 1977
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| 300 |
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|a XII, 284 S. 59 Abb
|b online resource
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| 505 |
0 |
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|a 6.4. Ausnutzung der Beugung und Absorption der Röntgenstrahlung -- 6.5. Andere Verfahren der Elementanalyse -- 6.6. Kathodolumineszenz -- Literatur zu § 6 -- 7. Auswertemethoden rasterelektronenmikroskopischer Aufnahmen -- 7.1. Ermittlung der dreidimensionalen Struktur -- 7.2. Stereometrie -- 7.3. Optische Transformationen -- Literatur zu § 7 -- 8. Präparation -- 8.1. Einleitung -- 8.2. Präparatmontage und Oberflächenvorbereitung -- 8.3. Stabilisierung der Objekte -- 8.4. Kleine Teilchen und durchstrahlbare Präparate -- 8.5. Abdruckverfahren -- 8.6. Vermeidung von Aufladungen -- 8.7. Erweiterung der Bildinformation -- Literatur zu § 8
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| 505 |
0 |
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|a 1. Einleitung -- 1.1. Prinzipielle Wirkungsweise und Betriebsarten eines Raster-Elektronen-mikroskopes (SEM) -- 1.2. Vergleich des Raster-Elektronenmikroskopes mit dem Lichtmikroskop und Transmissions-Elektronenmikroskop -- 1.3. Vergleich des Raster-Elektronenmikroskopes mit anderen Elektronen-Strahlgeräten -- Literatur zu § 1 -- Monographien, Tagungsbände und Bibliographien -- 2. Wechselwirkung Elektron-Materie -- 2.1. Einleitung -- 2.2. Elektronenstreuung am Einzelatom -- 2.3. Streuung in einer durchstrahlbaren Schicht -- 2.4. Elektronendiffusion in kompaktem Material -- 2.5. Rückstreuung und Sekundärelektronen-Emission -- 2.6. Ausbreitung der Elektronen in Kristallen -- Literatur zu § 2 -- 3. Elektronenoptik, Aufbau und Funktion des Raster-Elektronenmikroskopes -- 3.1. Elektronenoptische Grundlagen -- 3.2. Abrasterung und Fokussierung -- 3.3. Objektveränderungen durch Elektronenbeschuß -- 3.4. Objektkammer und Detektoren -- 3.5. Elektronik und Bildaufzeichnung --
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|a 3.6. Spezielle Techniken der Raster-Elektronenmikroskopie -- Literatur zu § 3 -- 4. Abbildung mit Sekundär-, Rückstreuelektronen und Probenströmen -- 4.1. Oberflächentopographie -- 4.2. Materialkontrast -- 4.3. Auflösungsgrenze und Informationstiefe -- 4.4. Channelling-Diagramme und Kristallorientierungskontrast -- 4.5. Abbildung und Messung elektrischer Potentiale -- 4.6. Abbildung und Messung magnetischer Objektfelder -- 4.7. Abbildung mit internen Probenströmen und elektromotorischen Kräften -- Literatur zu §4 -- 5. Raster-Transmissions-Elektronenmikroskopie -- 5.1. Spezielle Eigenschaften der Rastertransmission -- 5.2. Realisierung des Transmissionsbetriebes -- 5.3. Anwendung der Raster-Transmissions-Elektronenmikroskopie -- Literatur zu § 5 -- 6. Elementanalyse und Abbildung mit emittierten Quanten und Augerelektronen.-6.1. Grundlagen der Röntgenemission -- 6.2. Wellenlängen- und energiedispersive Röntgenanalyse -- 6.3. Grundlagen der Röntgenmikroanalyse --
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| 653 |
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|a Mass spectroscopy
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|a Spectrum analysis
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|a Mass Spectrometry
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|a Separation Science
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|a Condensed Matter Physics
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|a Spectroscopy
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|a Separation (Technology)
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|a Anatomy
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| 653 |
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|a Condensed matter
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| 700 |
1 |
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|a Pfefferkorn, G.
|e [author]
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| 041 |
0 |
7 |
|a ger
|2 ISO 639-2
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| 989 |
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|b SBA
|a Springer Book Archives -2004
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| 028 |
5 |
0 |
|a 10.1007/978-3-642-81112-8
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| 856 |
4 |
0 |
|u https://doi.org/10.1007/978-3-642-81112-8?nosfx=y
|x Verlag
|3 Volltext
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| 082 |
0 |
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|a 611
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| 082 |
0 |
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|a 571.3
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